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dc.contributor.advisorStedile, Fernanda Chiarellopt_BR
dc.contributor.authorSantos, Josiane Heyde dospt_BR
dc.contributor.authorCorrêa, Silma Albertonpt_BR
dc.date.accessioned2011-11-09T01:18:20Zpt_BR
dc.date.issued2008pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/34119pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdfpt_BR
dc.language.isoporpt_BR
dc.relation.ispartofSalão de Iniciação Científica (20. : 2008 out. 20-24 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2008.pt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectQuímicapt_BR
dc.titleEstabilidade química dos oxicarbetos de silício presentes na interface Sio2/SiCpt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (20. : 2008 out. 20-24 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.identifier.nrb000674799pt_BR
dc.subject.sessionQuímica de Materiaispt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.description.number282pt_BR
dc.type.originNacionalpt_BR


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