Produção de filmes finos de HfOx por pulverização catódica reativa
dc.contributor.advisor | Krug, Cristiano | pt_BR |
dc.contributor.author | Kaufmann, Ivan Rodrigo | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2012-05-15T20:33:05Z | pt_BR |
dc.date.issued | 2011 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10183/48255 | pt_BR |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | por | pt_BR |
dc.rights | Open Access | en |
dc.title | Produção de filmes finos de HfOx por pulverização catódica reativa | pt_BR |
dc.type | Resumo publicado em evento | pt_BR |
dc.contributor.event | Salão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS). | pt_BR |
dc.subject.session | Propriedades físicas de novos materiais | pt_BR |
dc.subject.theme | Propriedades físicas de novos materiais | pt_BR |
dc.subject.cnpq | Ciências exatas e da terra | pt_BR |
dc.type.presentation | Apresentação oral | pt_BR |
dc.description.number | 1 | pt_BR |
dc.identifier.sic | 11305 | pt_BR |
dc.subject.macro | Física | pt_BR |
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