Estudo experimental da resistividade elétrica em ligas de Heusler

Abstract

Medidas de resistividade elétrica foram realizadas nas ligas de Heusler cu 2Mn (Al 1 -xSnx), onde x =O; 0,05; 0,10 e 0,15, no intervalo de temperaturas de 4,2 a 800°K. Foram também efetua das medidas nas ligas de Heusler Ni 2MnX,. com X = In, Sn ou Sb, no intervalo de 4,2 a 300°K . As curvas experimentais mostram clar amente a importância do caráter fe rromagnetico nas re sistivi dades das ligas. Os resultados obtidos para as ligas de cobre, bem como para a liga Ni 2MnSn, estão em concórdância com uma interpretação em termos dos modelos de Bloch-Grüneisen e de desordem de spin, e falham quando tentamos obter evidên cias de espalhamento s-d para os elétrons de condução. Esse não é o caso para as ligas Ni 2Mnln e Ni 2MnSb, em que a presença de processo de espalhamento eletrônico interbanda (s-d), via fonon, foi detectada. Especialmente para as duas últimas ligas, são sugeridas experiências de calor especifico e de foto-emissividade eletrônica.

Electrical resistivity measurements have been performed on the Cu 2Mn (Al 1 -xsnx) Heusler alloys, where x =O, 0.05, 0.10 and 0.15, in the temperature range of 4.2 to 800 o K. Measurements have also been made on the Ni 2MnX Heusler alloys, with X = In, Sn or Sb, in the range of 4.2 to 300°K. The experimental curves clearly show the importance of the ferromagnetic character on the alloys resistivities. The results obtained for the copper allooys, as well as for the Ni 2MnSn alloy, are in ágreement with an interpretation in terms of Bloch-Grüneisen and spin-disorder models, and fail to provide evidences of s-d scattering for the conduction electrons. This is not the case for the Ni 2Mnln and Ni 2MnSb alloys, in which the presence of (s-d) interband electronic scattering process, via phonon, was detected. Specially for the two last alloys specific heat and electronic photo-emissivity experiments are suggested.