Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio

dc.contributor.advisor	Krug, Cristiano	pt_BR
dc.contributor.author	Schafer, Laura	pt_BR
dc.date.accessioned	2013-01-25T10:30:06Z	pt_BR
dc.date.issued	2012	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/64355	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.title	Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de Iniciação Científica (24. : 2012 out. 1-5 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.subject.session	Informática - microeletrônica	pt_BR
dc.subject.theme	Microeletrônica	pt_BR
dc.subject.cnpq	Ciências exatas e da terra	pt_BR
dc.type.presentation	Apresentação oral	pt_BR
dc.description.number	1	pt_BR
dc.identifier.sic	25329	pt_BR
dc.subject.macro	Informática	pt_BR

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