Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área

dc.contributor.author	Pimenta, Marcelo Dornelles	pt_BR
dc.contributor.author	Strohaecker, Telmo Roberto	pt_BR
dc.date.accessioned	2014-07-19T02:07:16Z	pt_BR
dc.date.issued	1997	pt_BR
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10183/98223	pt_BR
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.relation.ispartof	Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1997.	pt_BR
dc.rights	Open Access	en
dc.subject	Metalurgia física	pt_BR
dc.title	Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área	pt_BR
dc.type	Resumo publicado em evento	pt_BR
dc.contributor.event	Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 set. 15-19 : UFRGS, Porto Alegre, RS).	pt_BR
dc.identifier.nrb	000241991	pt_BR
dc.subject.session	Engenharia Metalúrgica e de Materias I	pt_BR
dc.subject.cnpq	Engenharias	pt_BR
dc.description.number	024	pt_BR
dc.type.origin	Nacional	pt_BR

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