Navegação TCC Química por Assunto "Deposição a vapor"
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Crescimento homogêneo de dissulfeto de metais de transição (TMD) sobre substrato de Si / SiO2 pela técnica de fusão do precursor metálico
(2021) [Trabalho de conclusão de graduação]Este trabalho investigou o processo de crescimento homogêneo de WS2 pelo método de fusão de uma solução de precursor metálico Na2WO4 sobre substrato Si / SiO2 com posterior sulfurização da amostra. Os parâmetros reacionais ... -
Obtenção de grafeno sobre substratos isolantes
(2021) [Trabalho de conclusão de graduação]A busca por novos materiais que proporcionem alternativas e soluções para situações do cotidiano está sendo cada vez mais intensa. Neste contexto, o grafeno está em destaque. A técnica de deposição química em fase vapor ...